特許取得の報告「水素供給装置」

2012.10.02

【課題】
水素の濃度が低い場合であっても水素含有ガスから水素を分離可能であると共に装置の稼動時の騒音を抑制可能とする。

【解決手段】
水素含有ガスG1に含まれる水素を選択的に透過させることによって水素を供給する水素供給装置であって、触媒作用により水素分子を水素イオンに解離すると共に水素透過性を有する第1金属層2と、電子を用いて水素イオン同士を結合させて水素分子を生成すると共に水素透過性を有する第2金属層3と、上記第1金属層2と上記第2金属層3とに挟まれると共に電圧が印加されることによって上記第1金属層2側から上記第2金属層3側に上記水素イオンを透過する水素透過層1と、上記第1金属層2を陽極とし、上記第2金属層3を陰極として上記水素透過層1に上記電圧を印加する電圧印加手段7とを備える。

【選択図】図1

特許登録日 平成24年8月31日
特許番号 特許第5071720号
特許名称 水素供給装置
特許取得者(発明) 工学部 小原 宏之 教授
        西野 順也(*1)
        高橋 克巳(*1)

※本学と株式会社IHI(*1)との共同出願

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