米国特許取得の報告

2013.12.04

「HYDROGEN SUPPLY DEVICE」
(水素供給装置)

The present invention relates to a hydrogen supply device which supplies hydrogen by selectively permitting permeation of hydrogen contained in a hydrogen containing gas (G1). This device includes: a first metal layer (2) which dissociates hydrogen molecules into hydrogen ions by a catalytic reaction and has hydrogen permeability; a second metal layer (3) which creates hydrogen molecules by bonding hydrogen ions to each other using electrons and has hydrogen permeability; a hydrogen permeation layer (1) which is interposed between the first metal layer (2) and the second metal layer (3) and permits permeation of the hydrogen ions from the first metal layer (2) to the second metal layer (3) by the application of a voltage; and a voltage application (7) for applying the voltage to the hydrogen permeation layer (1) by setting the first metal layer (2) as an anode and setting the second metal layer (3) as a cathode. According to this device, even when the concentration of hydrogen is low, it is possible to dissociate hydrogen from a hydrogen containing gas, and to suppress noise during the operation of the device.

課題
水素の濃度が低い場合であっても水素含有ガスから水素を分離可能であると共に装置の稼動時の騒音を抑制可能とする。

解決手段
水素含有ガスG1に含まれる水素を選択的に透過させることによって水素を供給する水素供給装置であって、触媒作用により水素分子を水素イオンに解離すると共に水素透過性を有する第1金属層2と、電子を用いて水素イオン同士を結合させて水素分子を生成すると共に水素透過性を有する第2金属層3と、上記第1金属層2と上記第2金属層3とに挟まれると共に電圧が印加されることによって上記第1金属層2側から上記第2金属層3側に上記水素イオンを透過する水素透過層1と、上記第1金属層2を陽極とし、上記第2金属層3を陰極として上記水素透過層1に上記電圧を印加する電圧印加手段7とを備える。

選択図

特許登録日 平成25年7月30日
特許番号 US.8,496,736
特許名称 HYDROGEN SUPPLY DEVICE
(水素供給装置)
特許発明者 玉川大学 工学部   小原 宏之  教授
  • 本学と株式会社IHIとの共同出願



玉川大学学術研究所知的財産本部では、先生方の研究成果の特許取得を推進するとともに、企業との共同研究開発に結びつくきっかけ作りになることを目指してまいります。
今後ともご協力よろしくお願いいたします。